Resumo:
Filmes finos metálicos com espessuras abaixo da profundidade pelicar (skin depth) apresentam grande capacidade de absorção da radiação eletromagnética na banda X (8-12 GHz), que é poetencializada pela inserção de impurezas e pela taxa de deposição utilizada para a sua produção. Neste trabalho filmes ultrafinos de titânio, transparentes no espectro visível e absorvedores de micro-ondas na banda X, foram produzidos pela técnica de deposição por feixe de elétrons com taxas de 1, 3 e 5 Å/s, com diferentes espessuras (20, 25, 30, 40, 50 e 75 Å), utilizando titânio com diferentes graus de pureza (TiGr2, TiGr4 e TiGr5). Para caracterizar os filmes foram utilizadas as técnicas de difração de raios X, microscopia eletrônica de varredura, microscopia de força atômica, transmitância óptica, Efeito Hall e absorção de micro-ondas. Os resultados mostraram que os filmes ultrafinos de titânio podem ser utilizados como absorvedores de radiação eletromagnética na faixa de micro-ondas. Estima-se que a introdução de defeitos nos filmes, como consequência da presença de impureza do material utilizado e de sua espessura são os responsáveis pelas propriedades ópticas dos filmes produzidos, como consequência direta de suas propriedades elétricas. Filmes finos depositados a partir do TiGr5, com taxa de deposição de 5 Å/s e espessuras na faixa de 30Å e 40Å, apresentaram os maiores percentuais de absorção de micro-ondas